中國グラフェン産業(yè)技術(shù)革新戦略連盟が発表した情報(bào)によると、2010年のノーベル物理學(xué)賞受賞者、英マンチェスター大學(xué)のアンドレ?ガイム氏を含む多くの世界的に有名な専門家が、10月28～30日に青島國際會(huì)展センターで開かれる2015年中國國際グラフェン革新大會(huì)（GRAPCHINA 2015）に出席することになった?？萍既?qǐng)?bào)が伝えた。

同大會(huì)のテーマは「グラフェンの実用化のソリューションプラン」。講演とサブフォーラムで取り上げられる內(nèi)容には、生産技術(shù)、標(biāo)準(zhǔn)化、新エネルギー、放熱、タッチパネル、伝導(dǎo)性インク、複合材料、機(jī)能性塗料など30以上のニッチ分野が含まれ、業(yè)界展示交流、學(xué)術(shù)資料の展示なども行われる。同大會(huì)では4つの基礎(chǔ)応用サブ會(huì)場(chǎng)、6つの特色あるフォーラム、7つの二國間協(xié)力フォーラム、22の応用技術(shù)サブ會(huì)場(chǎng)が設(shè)置される。また會(huì)期中に、國際革新創(chuàng)業(yè)コンテストが開かれる。（編集YF）

「人民網(wǎng)日本語版」2015年10月14日