世界トップレベルの學(xué)術(shù)誌「ネイチャー」は14日夜、中國の科學(xué)者による次世代光電子半導(dǎo)體製造分野の重要なブレイクスルーを発表した。南京大學(xué)の張勇氏、肖敏氏、祝世寧氏が率いる科學(xué)研究チームは、新型「非相互的フェムト秒レーザー分極化強誘電性分域」技術(shù)を発明した。フェムト秒パルスレーザーを材料「ニオブ酸リチウム」の結(jié)晶體內(nèi)部に合焦させ、レーザー移動の方向をコントロールすることで、結(jié)晶體內(nèi)部に効果的な電界を形成し、3次元構(gòu)造の直寫と削除を?qū)g現(xiàn)している。中央テレビニュースが伝えた。

同新技術(shù)は従來のフェムト秒レーザー光の回折の極限を打破し、ニオブ酸リチウム3次元構(gòu)造のレーザー刻印のサイズを従來の1ミクロン（髪の毛の50分の1に相當）から初めてナノメートル級の30ナノメートルにし、加工精度を大幅に上げた。

この重要な発明は將來的に、光電子チップ製造の新たな競爭の場となる可能性がある。電気光學(xué)変調(diào)器、音響フィルター、不揮発性強誘電體メモリなどの重要光電子部品?半導(dǎo)體の製造に用いられる見込みで、5G?6G通信、光計算、人工知能などの分野で広い応用の見通しがある。（編集YF）

「人民網(wǎng)日本語版」2022年9月16日